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一、參考書目:

王培銘、許乾慰主編“材料研究方法”（第三版），科學(xué)出版社

二、基本要求

1. 掌握各種材料表征設(shè)備的理論基礎(chǔ)、樣品處理方法、數(shù)據(jù)處理方法。

2. 掌握晶體學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)，理解X 光、電子束與晶體相互作用機(jī)制。

3. 掌握材料結(jié)構(gòu)、形貌、成分分析的基本方法，掌握各種測試方法的應(yīng)用范圍及優(yōu)勢。

4. 能綜合運(yùn)用各種分析方法研究材料的結(jié)構(gòu)及物理、化學(xué)性質(zhì)，解決材料研究中的常見案例。

三、主要知識(shí)點(diǎn)

第一章 晶體學(xué)基礎(chǔ)知識(shí)：晶體幾何學(xué)基礎(chǔ)；空間點(diǎn)陣；倒易點(diǎn)陣及其在幾何學(xué)中的應(yīng)用。

第二章 X 射線衍射：X射線的產(chǎn)生及特性；X射線與物質(zhì)相互作用機(jī)制；布拉格方程及衍射方法；X射線衍射儀的基本結(jié)構(gòu)及工作原理；粉末衍射定性分析；應(yīng)力分析；謝樂公式；X射線衍射的應(yīng)用；X射線衍射譜的標(biāo)定及數(shù)據(jù)分析；物相分析的一般方法。

第三章 電子顯微學(xué)：光學(xué)顯微鏡與透射電鏡的異同；電子與物質(zhì)的相互作用；掃描電鏡和透射電鏡基本工作原理、儀器構(gòu)造、樣品制備方法及應(yīng)用范圍; 透射電鏡成像方法、明場像、暗場像；電子衍射原理、基本衍射公式、電子衍射花樣及標(biāo)定方法。

第四章 原子力顯微鏡：原子力顯微鏡工作原理、儀器構(gòu)造及應(yīng)用范圍；原子力顯微鏡工作模式。

第五章 熱分析方法：差熱分析、熱重分析儀的工作原理及在材料研究中的應(yīng)用；熱重曲線、差熱曲線的數(shù)據(jù)分析。

第六章 材料成分分析方法：X射線光電子能量譜（XPS）、俄歇電子能譜、X射線能量色散譜的工作原理及應(yīng)用范圍；XPS 分峰方法。

第七章 光譜分析：物質(zhì)與光的相互作用；紫外可見吸收光譜、拉曼光譜、紅外光譜的工作原理及其在材料研究中的作用。比爾定律、拉曼散射、拉曼/紅外活性等相關(guān)重要概念。

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