上?？萍即髮W(xué)微納工藝超凈室科研平臺(tái)是上?？萍即髮W(xué)第一個(gè)五年計(jì)劃重點(diǎn)建設(shè)工程之一，是學(xué)校開展半導(dǎo)體器件工藝及其交叉學(xué)科研究的重要?jiǎng)?chuàng)新平臺(tái)。本超凈室主要為III-V族， III-Nitride, Si， Ge等無(wú)機(jī)半導(dǎo)體材料和相關(guān)新型器件提供研究和制造平臺(tái)。

微納工藝超凈室平臺(tái)的建設(shè)目的是為了促進(jìn)基于納米科學(xué)，半導(dǎo)體技術(shù)，光電子技術(shù)以及能源，信息，材料，醫(yī)療，環(huán)境等領(lǐng)域多學(xué)科交叉研究的發(fā)展和研究。通過(guò)3-5年持續(xù)的發(fā)展和建設(shè)，將逐步建立起條件優(yōu)良，功能齊全，管理規(guī)范，先進(jìn)高效的優(yōu)質(zhì)資源公用系統(tǒng)和共享機(jī)制，建設(shè)成適應(yīng)于當(dāng)前以及未來(lái)器件工藝研發(fā)所需要的基礎(chǔ)支撐體系。

微納工藝超凈室科研平臺(tái)屬于上科大公共科研平臺(tái)，委托信息學(xué)院籌建并先期管理。該職位目前向信息學(xué)院主管科研的副院長(zhǎng)匯報(bào)工作。

一、崗位職責(zé)

1. 安裝與維護(hù)超凈室中包含E-beam lithography，photo lithography， metal deposition，Reactive-ion etching， Atomic Layer Deposition，AFM，SEM， Chemical hood， Chemical storage， advanced oxide etch，Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，Rapid Thermal Annealer，ellipsometry等大型實(shí)驗(yàn)儀器;

2. 幫助和培訓(xùn)學(xué)生以及其他科研工作人員使用超凈室中各類儀器;

3. 采購(gòu)超凈室需要的耗材;

4. 協(xié)助完善超凈室各個(gè)實(shí)驗(yàn)儀器的使用章程和規(guī)范;

5. 輔助半導(dǎo)體器件制造實(shí)驗(yàn)課程的制定和開設(shè);

6. 負(fù)責(zé)科研平臺(tái)資產(chǎn)管理和設(shè)備、耗材采購(gòu)等工作;

7. 其他相關(guān)工作。

二、招聘條件

1. 具有微電子，光電子，材料或者物理等領(lǐng)域的本科，碩士或博士學(xué)歷;

2. 具有豐富的器件工藝的經(jīng)歷(研究生的在?？蒲薪?jīng)歷也可以);

3. 對(duì)半導(dǎo)體器件，光電子器件的工作原理和測(cè)試有基本的了解;

4. 具有良好的團(tuán)隊(duì)合作精神，善于溝通;

5. 能夠閱讀相關(guān)專業(yè)的英語(yǔ)文獻(xiàn);

6. 具備流利的英語(yǔ)口語(yǔ)和寫作能力;

7. 具有良好的協(xié)調(diào)溝通能力、管理能力和學(xué)習(xí)能力、以及團(tuán)隊(duì)合作精神。

三、應(yīng)聘要求及程序

1.請(qǐng)應(yīng)聘者通過(guò)人才招聘系統(tǒng)(http://jobs.shanghaitech.edu.cn/)提交應(yīng)聘申請(qǐng)，請(qǐng)?zhí)顚懲暾麘?yīng)聘材料。不接受現(xiàn)場(chǎng)和郵件應(yīng)聘。應(yīng)聘流程為：注冊(cè)、填寫并提交個(gè)人基本信息、應(yīng)聘選擇崗位。

2.對(duì)應(yīng)聘者進(jìn)行資格審查，對(duì)初審?fù)ㄟ^(guò)者，將另行通知面試時(shí)間。

3.招滿即止。

4.如有疑問(wèn)，請(qǐng)發(fā)郵件至sist@shanghaitech.edu.cn。