先進(jìn)電子材料與器件校級(jí)平臺(tái)(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“AEMD平臺(tái)”)創(chuàng)建于2012年，是為全?？蒲泄ぷ魈峁┓?wù)的大型儀器設(shè)備校級(jí)共享平臺(tái)，具備10nm至微米級(jí)微納器件與圖形的加工與測(cè)試能。AEMD平臺(tái)在學(xué)校各級(jí)領(lǐng)導(dǎo)的大力支持下，成為相關(guān)學(xué)科依托發(fā)展的重要支撐力，同時(shí)也為科研工作提供完善的保障。 AEMD平臺(tái)分別座落于交大閔行校區(qū)微電子大樓一層(西區(qū))以及綜合實(shí)驗(yàn)樓一層(東區(qū))，實(shí)驗(yàn)室共有近1510m2的100級(jí)、1000級(jí)凈化室，其中100級(jí)210 m2，1000級(jí)約1300m2。除此之外，平臺(tái)還擁用近250m2非凈化測(cè)試加工區(qū)。 平臺(tái)建設(shè)有一條能對(duì)硅、玻璃和有機(jī)材料進(jìn)行微納米加工的3～6英寸半導(dǎo)體級(jí)實(shí)驗(yàn)線(西區(qū)實(shí)驗(yàn)室)以及一條3～4英寸非硅/MEMS微納加工實(shí)驗(yàn)線(東區(qū)實(shí)驗(yàn)室)，部分設(shè)備可實(shí)現(xiàn)8英寸基片加工。平臺(tái)擁有電子束曝光系統(tǒng)、雙束聚焦離子束系統(tǒng)、雙面對(duì)準(zhǔn)紫外光刻機(jī)(3臺(tái))、熱壓/紫外納米壓印系統(tǒng)、涂膠顯影系統(tǒng)(3套)、微波去膠機(jī)(3臺(tái))、氧化擴(kuò)散爐(5管，2套)、多晶硅/氮化硅LPCVD爐(2管)、快速熱處理設(shè)備、濕法清洗刻蝕臺(tái)(12臺(tái)套)、多靶磁控濺射系統(tǒng)(4臺(tái)套)、超高真空磁控濺射系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)設(shè)備(2套)、離子束濺射機(jī)、離子束刻蝕機(jī)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、金屬反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、介質(zhì)反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、深硅刻蝕系統(tǒng)(2套)、微電鑄/電鍍系統(tǒng)、OLED器件實(shí)驗(yàn)制備系統(tǒng)、基片拋磨設(shè)備、砂輪切片系統(tǒng)、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、原子力顯微鏡、半導(dǎo)體參數(shù)測(cè)試儀(2套)、霍爾效應(yīng)儀、四探針測(cè)試儀、表面輪廓儀(3臺(tái))、紫外膜厚儀等先進(jìn)的微納加工與測(cè)試設(shè)備，具備10nm至微米級(jí)微納器件與圖形的加工與測(cè)試能力。 AEMD平臺(tái)的創(chuàng)建提高了我校大型儀器的利用水平，并為跨學(xué)科的交叉研究、國(guó)內(nèi)外的合作提供了平臺(tái)，也為高層次的人才培養(yǎng)提供了良好的實(shí)驗(yàn)基地;平臺(tái)也向社會(huì)相關(guān)科研機(jī)構(gòu)與企業(yè)公開(kāi)開(kāi)放，提供相關(guān)項(xiàng)目合作與微納加工服務(wù)?，F(xiàn)為平臺(tái)發(fā)展之需，特向社會(huì)公開(kāi)招聘高層次工藝技術(shù)開(kāi)發(fā)人員(專(zhuān)職科研人員)，要求如下：

招聘崗位：專(zhuān)職科研

招聘人數(shù)：1 名

聘用方式

人才派遣A

招聘條件

研究生學(xué)歷,博士學(xué)位

2.微電子學(xué)與固體電子學(xué)、電子科學(xué)與技術(shù)、物理學(xué)、材料學(xué)等相關(guān)專(zhuān)業(yè); 3.具有在國(guó)內(nèi)外知名大學(xué)或研究機(jī)構(gòu)從事微納器件與結(jié)構(gòu)(如半導(dǎo)體器件、光電子器件、硅基光電子器件、MEMS、微流控芯片、非硅工藝、各種微納結(jié)構(gòu))仿真設(shè)計(jì)、工藝開(kāi)發(fā)、流片驗(yàn)證、測(cè)試等相關(guān)教學(xué)、科研工作經(jīng)歷者優(yōu)先考慮; 4.有較好的英語(yǔ)口語(yǔ)、閱讀及書(shū)寫(xiě)能力; 5.有較好的團(tuán)隊(duì)合作能力、與人溝通協(xié)調(diào)的能力。

崗位職責(zé)

1.完成學(xué)校及平臺(tái)規(guī)定的各項(xiàng)科研、服務(wù)等任務(wù); 2.進(jìn)行AEMD平臺(tái)先進(jìn)工藝技術(shù)與標(biāo)準(zhǔn)工藝流程開(kāi)發(fā)與工藝集成; 3.領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他科研相關(guān)研究工作。

崗位待遇

根據(jù)上海交通大學(xué)有關(guān)規(guī)定執(zhí)行

其他

有意者請(qǐng)網(wǎng)上應(yīng)聘，并將簡(jiǎn)歷發(fā)送至聯(lián)系郵箱(請(qǐng)見(jiàn)聯(lián)系方式)

聯(lián)系方式

聯(lián)系人：鐘老師、王老師

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